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清洗剂中的氧化剂是一种通过与污渍发生化学反应来消除污渍的中药制剂，即用于清洗的还原剂或氧化剂，包括融化剂。还原剂用于消除氧化污渍，如许多有机化学污渍。氧化剂用于消除还原性污渍，如锈垢。
用于工业污垢清洗的化学品一般应满足以下技术要求。针对这些要求，可以强调或选择用于不同清洁目的和对象的清洁剂。清洁污垢，彻底溶解污垢。清洗剂本身具有很强的反应、分散或溶解污垢的能力，能在有限的时间内彻底清除污垢。对清洗对象的损害应在生产的限度内，对金属可能的腐蚀也应相应加以抑制。清洗所用的化学品廉价易得，立足于本地化；清洗成本低，不会造成过多的资源消耗。清洗剂对生物和环境或低毒，产生的废气、废液、废渣应经过处理，符合国家相关法律法规的要求。
不溶无机污垢 对某些坚硬的无机盐固体沉淀污垢，例如锅炉内壁不溶于水的水垢( CaC03、MgC03)等，可以用盐酸水溶液将其溶解去除（当然在除垢处理时需考虑锅炉基体受到腐蚀，要用缓蚀剂）。盐酸去除水垢CaC03的化学反应式如下所示。CaC03+2HCI-， CaCl2+COZ十 +Hz0不溶性有机污垢 许多工业污垢可溶解于有机溶剂，但有机溶剂（如苯或丙酮等）易于挥发并污染环境、影响操作者的健康，同时有机溶剂的成本相对较高，所以往往用水基清洗剂对一些有机污垢进行去除。水基清洗剂包含有清洗主剂和助剂等组分。
清洗所用剂便宜易得，并立足于国产化；清洗成本低，不造成过多的资源消耗。清洗过程不在清洗对象表面残留下不溶物，不产生新污溃，不形成新的有害于后续工序的覆盖层，不影响产品的质量。清洗剂要求尽量做到无磷，并减少COD值。不产生影响清洗过程及现场卫生的泡沫和异味。清洗条件温和，尽量不依赖于附加的强化条件，如对温度、压力、机械能等不需要过高的要求。清洗剂不能是易燃、易爆物，或对所需清洗的产品或设备具有某种潜在的威胁。